कोटिंग्स में नैनोमैटेरियल्स के अनुप्रयोग का एक व्यापक दृश्य: छह नैनोफिलर्स (नैनो-SiO₂/TiO₂/ZnO/कार्बन नैनोट्यूब/ग्राफीन/नैनोक्ले) के कार्यात्मक योगदान, फैलाव तकनीक और प्रदर्शन वृद्धि का मात्रात्मक निर्धारण।

2026-06-14 · वर्गीकरण: Technical Knowledge

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परिचय: नैनो और #8221; बड़े और #8221; प्रभाव से और #8221; लघु और #8221; कण

नैनोमटेरियल्स (कम से कम एक आयामी (0.1-5%) का एक बहुत छोटा जोड़ महत्वपूर्ण प्रदर्शन बढ़ जाती है (कठोरता / संचालक / शील्ड / नकारात्मक / यूवी संरक्षण) – ये प्रदर्शन उन्नयन सूक्ष्म पैमाने पर भरने के लिए संभव नहीं हैं (> 10-30% जोड़ा गया)। उनके और #8220 पर नैनोमटेरियल्स की सुपर-कुशल ऊर्जा; & #8221 पर नैनोप्रभाव;> (1) सतह क्षेत्र प्रभाव – कुल परमाणुओं के लिए नैनोकणों (>100m2/g) खाते की सतह परमाणुओं। 50% सतह की रासायनिक प्रतिक्रिया गतिविधि बेहद उच्च है (उदाहरण के लिए नैनोटियो 2 – सूक्ष्म-tio2 निष्क्रियता का photocatalytic); (2) क्वांटम आकार प्रभाव – नैनो-कण (ऑप्टिकल अवशोषण/लॉन्च तरंगदैर्ध्य परिवर्तन (उदाहरण के लिए नैनोZno अवशोषण UVA – माइक्रो-Zno कोई); (3) नैनो-यांत्रिक प्रभाव – कार्बन नैनोप्लग्स/ग्रेफाइट (> 1000:1) का अति-उच्च देशांतर अनुपात – बहुत कम स्तरों पर जोड़ा (10 गुना सूक्ष्म-mith फाइबर के बराबर)।。

纳米材料在涂料中的应用全景:纳米SiO₂/TiO₂/ZnO/碳纳米管/石墨烯/纳米粘土六种纳米填料的-场景图

I. पेंट में छह नैनोमटेरियल्स के कार्यों का सारांश

नैनो सामग्री
कण आकार
जोड़ें (%)
कोर कार्य
मुख्य चुनौतियों

NanoSio2
7-40 एनएम
0.5-5
Touching/resilient/hardening (H → 2H → 3H)/silence/resortance
फैलाव (15m/s)+ अल्ट्रासाउंड

नैनोTi2
5-50 एनएम
1-5
यूवी ढाल (पारदर्शी) / प्रकाश उत्प्रेरक स्वयं सफाई / जीवाणुरोधी
Photocatalytic गतिविधि degrades लेपित रेजिन – अकार्बनिक झिल्ली (Al203 / SiO2)

नैनो
20-100 एनएम
0.5-3
यूवी अवशोषण (UVA-UVB पूर्ण बैंड)/negative/combative पेंट
Zno लिंग ऑक्साइड है – उच्च पीएच (> 10) और कम पीएच () पर

MWCNT
व्यास में 10-50 एनएम > 1 मीटर
0.3-1.5
पावर ट्रांसपोर्ट (103-107 वोल्टेज प्रतिरोध) / यांत्रिकी वृद्धि (E+> 30%)
सीपेज थ्रेसहोल्ड अत्यंत कम (0.05 वोल्ट प्रति सेंट) है – प्रतिरोध दर से 106 गुना अधिक – सटीक नियंत्रण की आवश्यकता है

ग्रेफाइट
1-5 मंजिल/स्पूर > 1 मिमी
0.5-2
पावर ट्रांसफर (103-106 बार) + ढाल (माज़ प्रभाव / पारगमन पथ + 50 x) / यांत्रिकी वृद्धि
अल्ट्रासाउंड + गिल आधारित फैलाव + विलायक फैलाव के साथ फैलाना (cylindrium के srambles) अत्यंत मुश्किल है

नैनो मिट्टी।
परत मोटाई>1nm/श्रेणी>100nm
2-5
इंटरसेप्शन (ऑक्सीजन पेरोक्साइड को प्रेरित किया > 50%) / लौ retardation (enhanced कार्बन परत) / स्पर्श परिवर्तन
कार्बनिक संशोधन (मुख्य रूप से अमोनियम नमक प्लग) – विस्तारित परत रिक्ति (d001) – बहुलक द्वारा प्लग / अलग करने में सक्षम

सामान्य

Q1: और #8221 नैनोSiO2 के लिए; और #8221; और #8221; और #8221; और दो उपचार – पेंट में क्या उपयोग किया जाता है? पानी के अनुकूल SiO2 (surface OH बेस ग्रुप गहन) – (1) पानी के कोटिंग्स में – हाइड्रोजन कुंजी मोटे हैं – टेंटकल – स्थिर; (2) विलायक प्रकार में – पानी के अनुकूल SiO2 अवशोषित – कोटिंग बुलबुले की अनुमति नहीं है। SIO2 (surface OH समूह siliane/siloxane द्वारा प्रतिस्थापित) – (1) विलायक प्रकार में – संगत अच्छा – गैर-sorption – sedible अच्छा; (2) हाइड्रोफोबिक देने कोटिंग और #8221; #8221;> पानी संपर्क कोण> 120 डिग्री।。

Q2: और #8221 नैनोटीओ 2 के लिए; और #8221 प्रकाश उत्प्रेरक और #8221 के लिए; क्यों और #8221 कोटिंग्स के लिए; और #8221 अकार्बनिक झिल्ली और #8221 के लिए; अवरोध? नैनोTiO2 (रिथ टाइटेनियम माइन) यूवी के तहत आयुध डिपो मुक्त कण पैदा करता है – (1) सामने – photocatalytic अपघटन सतह कार्बनिक प्रदूषकों/ जीवाणुओं/ कवक – स्वयं सफाई – जीवाणुरोधी; (2) एंटी-OH मुक्त कण के कार्बनिक रेजिन भी पर हमला कोटिंग्स – रेजिन #8221; अपघटन और #8221; त्वरित कोटिंग पाउडरिंग। अकार्बनिक झिल्ली (Al2O3 / SiO2 को 2-5nm की शेल परत) – राल भौतिकी से TiO2 की फोटो-कैटेलिटिक गतिविधि को अलग करता है – राल को TiO2 के फोटो-कैटेलिस्ट का अर्थ नहीं है – कोटिंग पाउडर नहीं है – लेकिन यह TiO2 की यूवी ढाल को बरकरार रखता है (TiO2 की अपवर्तन दर) 2.5 – यूवी फोटें TiO2 कणों द्वारा बिखरे हुए हैं – कोई लेपित राल नहीं) – नैनो-TiO2 बिना झिल्ली मिलती है और #8221 यूवी के तहत; अपनी खुद की कोटिंग और #8221 खाना。

Q3: पेंट में ग्रेफाइट का फैलाव – यह क्यों है और #8221; सबसे कठिन और #8221; नैनो सामग्री? ग्रेफाइट परत में थोरियम-थोरियम स्टैकिंग (Vanderval/approx. > 100 mJ/m2 प्रति परत) के साथ एक बहुत मजबूत बातचीत है – सॉल्वैंट्स/लिप्स में ग्रेफाइट 99 प्रतिशत से अधिक एक पुनर्मिलन (> 1 μm व्यास / स्टैकिंग> 100 फर्श) के रूप में मौजूद है – एक परत (20kHz/500W/> 30min) के बजाय – ग्रेफाइट और 8220 का पुनर्मिलन; भूकंपीय और #8221; यूनीलायर्स/कम परतों का गठन – लेकिन अल्ट्रासाउंड के घंटों के भीतर – ग्रेफाइट और #8221 की कम परतें; पुनर्मिलन और पुनर्मिलन – एंकरिंग – Zirconium और ग्रेफाइट इलेक्ट्रॉनों-पतली स्टैकिंग सोखना – dispersant (पॉलिमर श्रृंखला) की लंबी श्रृंखला स्थानिक बाधाओं को प्रदान करती है – ग्रेफाइट को फिर से एकजुट होने से रोकता है – ग्रेफाइट पेंट और #8221 में फैला हुआ है; कुंजी और #8221。

Q4: नैनो-चित्रित और #8221; प्लग-इन/defeating और #8221; Intercalation/Exfoliation) तंत्र? प्राकृतिक detached मिट्टी (MMT) – ना + / Ca2 + – प्रो-वाटर के साथ interspersed – कार्बनिक राल के साथ असंगत है। कार्बनिक संशोधित permammonium नमक (लंबी जंजीर alkyl अमोनियम / QAS) – (1) MMT परत के बीच permammonium नमक और आयन विनिमय का सकारात्मक शुल्क (N+) – • त्रैमासिक अमोनियम नमक और #8221; सम्मिलन और #8221; अंत में MMT परत और #8220; पूर्ण स्ट्रिपिंग और #8221; एकल परत (100 एनएम) और #8221; #8221 में वृद्धि हुई।。

Q5: नैनो-Zno एक संरक्षक वर्णक के रूप में – Cr6+ को बदलने के लिए एक तंत्र? ZnO के संरक्षक तंत्र – (1) पानी में ZnO का धीमा विघटन (ZnO + H2O → n2 + 2OH – Zn2 + Zn(OH)2/ZnO sedimentation of Zn(OH)2/ZnO sedimentation on कोटिंग/steel अंतरफलक – डिक्रिप्शन — बाद में जंग की रोकथाम); (2) Zn2+ cathode प्रतिक्रिया (Zn2++2OH-n(OH)2 — OH खपत गुहा से प्रेरित — कमी इंटरफ़ेस pH — जंग की शमन). ZNO की परिरक्षक दक्षता Cr6+(>50%) की तुलना में कम है – लेकिन गैर विषैले/पर्यावरण – Cr6+ के व्यवहार्य विकल्पों में से एक।。

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सारांश

छह नैनोमटेरियल्स – SiO2 (टच / कठोरता), TiO2 (यूवी ढाल / सफाई), Zno (यूवी अवशोषण / आरक्षण), MWCNTT (प्रवाहकीय विद्युत), ग्रेफाइट (प्रवाहकीय + ढाल) और नैनोग्लूकोज (अलगाव) – कोटिंग में प्रत्येक क्षेत्र। नैनो फैलाव (ultrasound / गोलाकार पीस / टाइगर एंकरिंग / प्लगिंग) नैनोपेंट और #8221 की गुणवत्ता है; कुंजी तकनीकी बाधाओं और #8221; नए ग्राहक पत्र सामग्री ग्राहकों को पूर्ण नैनोमोडिफाइड पेंट फॉर्मूलेशन और विकेन्द्रीकृत तकनीकी सहायता प्रदान करती है।。

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