कोर निष्कर्ष: 1. स्मेल्टर की उच्च तापमान चिमनी एंटी-एसिड नैनोपॉलिटिक कोटिंग नैनोZr02/Al2O3/SiC (particle 10-50nm)+silioxane/siloxane/solu-gel पूर्व-exposures के माध्यम से एक अकार्बनिक सिरेमिक ढाल का निर्माण - 400-1500°C + SO2/SO3/HCl/HF एसिड फ्लोरीन संघन के निरंतर उच्च तापमान से विरोध - ZG-203 Si-O-Si इस्पात आधार Fe-OH indented (निवेशण> 15MPa) के रासायनिक लंगर के साथ मिलकर। SIOResin SIO-8161H हाइड्रो-नैप सिरेमिक कोटिंग - हार्ड 9H (कोल + थर्मल) - थर्मल शॉक टेस्ट (100C → 20 °C TN10 बार) खोलना, छीनना, रंगीन - तापमान प्रतिरोधी> 1000 °C सतत / 1500 °C चोटी है। 3. & #8221 गीला devulcanization (FGD) के बाद चिमनी के लिए; अम्ल दोलन के लिए #8221; रासायनिक/smelting चिमनी की विफलता का पहला कारण है - SO2/SO3 H2SO3/H2SO4 (PH) में फ्लू गैस में संघनित पानी झिल्ली में भंग
धातु विज्ञान और रासायनिक चिमनी औद्योगिक उपकरणों में सबसे अधिक मांग वाले संक्षारक वातावरण में से एक हैं - • उच्च तापमान (400-1500°C), एसिड फ्लू गैस (SO2 / SO3 / HCl / HF), तापमान में उतार-चढ़ाव (थर्मल सदमे तनाव) और उच्च गति वाले गैस धाराओं (> 20m / s) पर क्वाड्रिपार्टाइट हमले। स्मेल्टर के उच्च तापमान चिमनी पर नैनो-पोर्सेलेन कोटिंग्स एसिड कटाव के लिए प्रतिरोधी जैविक कोटिंग्स हैं जो पूरी तरह से असंगत और #8221 हैं; प्रतिबंधित क्षेत्र और #8221; - केवल अकार्बनिक सिरेमिक कोटिंग्स इस स्थिति के तहत लंबे समय तक चलने वाली सुरक्षा प्रदान कर सकते हैं।。
एसिड ड्रॉप जंग - संख्या एक हत्यारा जिसका चिमनी विफल हो गया।
प्रत्यक्ष उत्तर: सल्फर युक्त ईंधन (कोयला / भारी तेल / सल्फर युक्त खान) के दहन से फ्लू गैसों में SO2 सामग्री - कोयले से चलने वाले बिजली संयंत्रों के लिए 0.1-0.5 वोल्ट प्रतिशत, तांबा / लीड / जिंक स्मेल्टिंग (सल्फाइड केंद्रित ऑक्सीकरण) के लिए 5-15 वोल्ट प्रति सेंट। कुछ SO2 को उच्च तापमान (> 800 °C) पर SO3-SO3 + H2O2SO4 (सल्फेट वापर) के लिए ऑक्सीकरण किया जाता है। जब फ्लू गैस एसिड डॉट्स (H2SO4 स्पॉट पर लगभग 120-150 °C) को ठंडा करने के लिए चिमनी में बढ़ती है, तो SO3 एकाग्रता और पानी वाष्प सामग्री पर निर्भर करता है) - H2SO4 वाष्प चिमनी के भीतर संघनित होता है ताकि सल्फेट तरल झिल्ली (PH<2) की उच्च सांद्रता बन सके - स्टील / कंक्रीट चिमनी की दीवारों पर एसिड जंग को नष्ट कर दिया जा सके। जमे हुए गैस तापमान को 40-60 °C तक कम कर दिया गया जब गीला devulcanization (FGD) - हालांकि SO2 / SO3 को बड़े पैमाने पर desulphurizers (CaCO3 / CaO घोल) द्वारा अवशोषित किया जाता है, शेष SO2 / SO3 संघनित के संक्षारक गुण कम तापमान में गठित होते हैं, उच्च आर्द्रता की स्थिति उच्च सांद्रता (कम पानी वाष्पीकरण) द्वारा बढ़ जाती है।。
डेटा समर्थन: SIORESIN SIO-8161H (पानी नैनोप्लेट कोटिंग) - तापमान > 1000 °C सतत / 1500 °C शिखर - 20% H2SO4 30 दिनों के लिए गर्भवती - कोई fissure (1,000 °C → 20 °C × 10 बार) थर्मल शॉक - 9H (cold + गर्मी) पेंसिल के। ZG-203 नैनोफैट कोटिंग (ऑर्गन-अकार्बनिक संसेचन) - Si-O-Si एक रासायनिक लंगर बनाने के लिए आसुत इस्पात सतह के Fe-OH संघननन के साथ सह-मूल्य संबंध -> 15 एमपीए (उदय विधि) - कुल DFT ≥150 माइक्रोन (2-3 लेन) - तापमान > 800 °C - S02/SO3 / HCl/HF एसिड फ्लू गैस + संघनित।。
थिनी में नैनो मिट्टी के बर्तनों कोटिंग: नैनोZro2 / Al2O3 / SiC (10-50nm) + Si-O-Si covalent रासायनिक लंगर (> 15MPa) > तापमान प्रतिरोधी 400-1500°C → SO2 / SO3 / HCl / HF एसिड स्पॉट संघनननन (PH)स्रोत: SIORESIN SIO-8161H टीडीएस, ZG-203 टीडीएस, जीबी 50051-2021।
सामान्य
प्रश्न: क्या नैनोफैट कोटिंग का निर्माण सामान्य पेंट के समान है
बेस सामग्री उपचार की आवश्यकताएं उच्च हैं - स्प्रे टू Sa2.5 (ISO 8501-1), एंकरलाइन गहराई 50-75 मीटर - यह सुनिश्चित करें कि -Si-OR पूरी तरह से बेस Fe-OH के साथ संघनित है। दो समूहों के मिश्रण के बाद एक छोटी अवधि (30-60min)। कमरे का तापमान 24-48h (25 °C) को स्थिर करने में सक्षम है, पूरी तरह से 7 दिनों तक सुरक्षित है। प्री-हीट और #8221; ग्रेडिएंट बेकिंग और #8221; 80 °C / 2h ~ 150 °C / 2h ~ 300 °C / 2h) अवशिष्ट नमी और कार्बनिक अस्थिरता का धीरे-धीरे निर्वहन - उच्च तापमान सबक्टर्स से बचना।。
प्रश्न:
प्रारंभिक कोटिंग की लागत पारंपरिक EPOXY की लगभग 5-8 गुना है - लेकिन पारंपरिक EPOXY <2 साल फिर से पेंट किया जाना है (बंद होने के नुकसान सहित) - नैनो सिरेमिक कोटिंग पिछले 10-15 साल के लिए डिज़ाइन किए गए हैं - 10 साल LCC 60-80% कम है। चिमनी (कट-बंद + पाड़ + स्प्रे + कोटिंग) के एकल बंद होने का नुकसान लाखों डॉलर तक हो सकता है - एक विस्तारित पांच गुना रखरखाव चक्र द्वारा बचाया लाखों डॉलर।。
स्रोत: SIORESIN SIO-8161H, ZG-203, GB 50051-2021
गहराई पुनर्लेखन: 6 जुलाई 2026