कोर निष्कर्ष: 1. एसिड बारिश (पीएच) 2. नैनो-Sio2 / TiO2 कण (5-20nm) वार्निश मैट्रिक्स और8221 में गठित; मुफ्त मात्रा में भरने + पराबैंगनी अवशोषण और 8221; डबल सुरक्षा - कम कोटिंग पानी वाष्प पास दर 50-70% तक, जबकि रंग के तहत 95% + यूवी विकिरण संरक्षण को अवशोषित / बदलना। BASF iGloss नैनो-infestation पेंट OEM के मूल पेंट के नवीनतम तकनीकी स्तर का प्रतिनिधित्व करते हैं - एकीकरण का इष्टतम संतुलन 90-95% कार्बनिक (flexibility/प्रतिरोध) + 5-100% अकार्बनिक (कठोरता/प्रतिरोध) के माध्यम से हासिल किया जाता है।。
दक्षिणी चीन और औद्योगिक रूप से गहन क्षेत्रों में, एसिड बारिश (पीएच 3.5-4.5 के रूप में कम हो सकता है) एक दीर्घकालिक खतरा है जो कार पेंट को संक्षारक क्षति के लिए गंभीर रूप से कम है। H2SO4, HNO3 और कार्बनिक अम्लों (अल्फेट, एसिटिक अम्ल) की सांद्रता को पेंट किए गए पानी के मोती के वाष्पीकरण के बाद तेज़ी से बढ़ा दिया गया। pH4.0 पर एसिड बारिश की एक बूंद के पूर्ण वाष्पीकरण के बाद, अवशिष्ट एसिड आंशिक रूप से 1.0 से नीचे pH हो सकता है - वार्निश सतह पर घंटों के भीतर अपरिवर्तनीय अंगूठी नक़्क़ाशी बनाने के लिए पर्याप्त। उच्च लुमेनस एसिड-सबूत नैनो-संश्लेषण पेंट्स ने पेंट-सफाई राल के संयुग्मक रासायनिक आधार से हाइड्रोलिसिस और डिक्रिप्शन के साथ कोटिंग्स की सिफारिश की।。
एसिड बारिश संक्षारक रसायन - क्यों पेंट खाया जा रहा है
प्रत्यक्ष रूप से: पारंपरिक कार पेंट्स (OEM संयंत्र और REFACED पेंट्स) के लिए मुख्य इंटरलिंकिंग प्रणाली MELAMINE-ACRYLATE (AMINO-PROPYLENE एसिड) प्रणाली, MELAMINE राल HYDROXYLENE (CH2OH) और एक्रिलिक राल इंडेंटेशन (C-O-C-) है। ETHER KEY अत्यंत हाइड्रोलिटिक और फ्रैक्चरेबल है, जो अम्ल उत्प्रेरक के तहत है: -C-O-C-+ H2O (H+) → -C-OH + HO-C- कोटिंग का अंतरलिंकेज नेटवर्क #8221 था; कट और # 8221; मैक्रो-एक्सप्रेशन चमक, धुंध और अपरिवर्तनीय है।。
▲ एसिड प्रूफ बारिश नैनोपेंटिंग - Si-O-Si - जल प्रतिरोधी कन्वर्जेंस नेटवर्क: Nami SiO2 मुफ्त वॉल्यूम + TiO2 / Zno यूवी परिरक्षण भरनासंस्थागत विवरण - अम्ल वर्षा कटाव की प्रक्रियाएं। एसिड दोलन के गठन को तीन चरणों में विभाजित किया गया है: (1) एसिड सांद्रता - बारिश पेंट में फैल जाती है (आमतौर पर संपर्क कोणों के लिए 80 डिग्री) और पानी वाष्पीकरण के बाद एसिड की सांद्रता 10-100 गुना अधिक होती है; (2) एसिड कास्टिक हाइड्रोलिसिस - H + catalysed कोलाज और केंद्रित एसिड अम्लों में acrylates का हाइड्रोलिसिस, कम संघनननननन और आंशिक रूप से नरम और पेंट की सूजन के साथ; और (3) शुष्क सुखाने वाले कंस्ट्रक्शन - पानी पूरी तरह से सूखने के लिए वाष्पित होता है, सतह बल के तहत संघनित क्षेत्रों को नरम करना - आंखों या पानी से चलने वाले स्थानों में दिखाई देने वाले एसिड बौछार। एक बार गठन के बाद, पेंट की मोटाई 2-5 μm (कुल पेंट मोटाई का लगभग 5-15%) के रूप में उच्च हो सकती है।。
डेटा समर्थन: 2025 में चीन के पर्यावरण निगरानी स्टेशन के डेटा से पता चलता है कि देश की वर्षा दर के लगभग 28 प्रतिशत के लिए 5.6 प्रति वर्ष के खाते के नीचे pH के वार्षिक औसत वाले शहर हैं, और दक्षिण और पूर्वी चीन के शहरों में 40 प्रतिशत से अधिक शहरों में एसिड बारिश की दर 15 से अधिक है। एक ठेठ एसिड बारिश घटना (10 मिमी, pH4.0, 4 घंटे तक) पेंट की सुरक्षा के बिना 40 डिग्री सेल्सियस पर पर्यावरण तापमान के 24 घंटे के बाद आंख में दृश्य दोलन पैदा कर सकता है।。
स्रोत: चीन पर्यावरण निगरानी स्टेशन 2025 वार्षिक रिपोर्ट, EP04845440A1 पेटेंट निर्देश, BASF iGloss प्रौद्योगिकी व्हाइट लेदर। पुस्तकें
नैनो संक्षेपण संरक्षण - एसिड प्रतिरोध लाइन के लिए ट्रिपल तंत्र
तंत्र 1: Si-O-Si जंक्शन की रासायनिक जड़ता। यूरोपीय पेटेंट EP04845440A1 ने alkyloxysilonyl संशोधित acrylate + अमीनो रेजिन के मिश्रण का प्रस्ताव किया - एक कार्यात्मक-Si (OR) 3 ऐक्रेलिक एसिड मोनोमर पेश करके, ठोसकरण के दौरान -Si (OR) 3 हाइड्रोलाइज्ड फॉर्म-Si-Si-Si-Si-Si-X जंक्शन। पारंपरिक-C-O-C-ether बंधन के विपरीत, Si-O-Si कुंजी क्षमता (लगभग 452 kJ/mol) C-O कुंजी (लगभग 358 kJ/mol) की तुलना में बहुत अधिक है और Si-O-Si कुंजी अम्लीय स्थितियों के तहत hydrolyse नहीं है (प्रयोग में Si-O-Si कुंजी hydrolysis क्षारीयता की आवश्यकता होती है या इसमें F-catalytication होता है)। यह 40% H2SO4 / 50 °C / 5 घंटे विसर्जन परीक्षण में कोटिंग को नहीं बदलता है।。
तंत्र 2: नैनोSio2 कणों की मुफ्त मात्रा भरने और अलगाव में वृद्धि हुई। कार्बनिक बहुलक कोटिंग्स में सूक्ष्म पैमाने पर बड़ी संख्या में और #8221 होते हैं; मुफ्त वॉल्यूम छेद और #8221; - बहुलक श्रृंखला के खंड के बीच का अंतर, व्यास में लगभग 0.5-2 एनएम। पानी के अणु (लगभग 0.27 एनएम) और H3O+ आयन इन छेदों के माध्यम से कोटिंग के माध्यम से फैल सकते हैं। नैनोसिओ 2 कण (5-20 एनएम) इन मुक्त मात्रा छेदों को भरकर 50-70 प्रतिशत तक पानी वाष्प निष्क्रियता (WVTR) को कम करते हैं और कोटिंग में भौतिक बाधा नेटवर्क बनाते हैं। प्रायोगिक डेटा से पता चलता है कि WVTR ने 10wt% नैनोSiO2 (particle 15nm) को जोड़ा है जो लगभग 25g/m2/day से लेकर लगभग 9g/m2/day तक 40 °C/90% आरएच पर कम हो गया है।。
तंत्र III: नैनोटियो 2/Zno की यूवी ढाल और मुफ्त किड्स उन्मूलन। पराबैंगनी प्रकाश पेंट रेजिन पर यूवी विकिरण उत्पन्न मुक्त आधार हमले की सी-एच और सी-सी कुंजी है, जिसके परिणामस्वरूप सूक्ष्म-फिशर और ध्रुवीय क्लस्टर (जैसे-COOH, -OH), सतह जलीय और एसिड आर्द्रता बढ़ जाती है। NanoTio2 (Golden-Rebble type, कण आकार 10-30nm) और नैनो-ZnO (particle size 20-50nm) कुशल यूवी परिरक्षण एजेंट हैं - TiO2 लगभग 3.0-3.2eV की बेल्ट के साथ, जो तरंग दैर्ध्य <390nm पर पराबैंगनी प्रकाश को अवशोषित करता है; और Zno लगभग 3.3eV बैंड के साथ, जो तरंग दैर्ध्य <375 एनएम पर पराबैंगनी प्रकाश को अवशोषित करता है। उसी समय, रेडियम के ऑक्सीकरण के ऑक्सीकरण के साथ संयोजन में नैनोCeO2 और Obstructed Methamphetamine Stabilizer (HALS) द्वारा उत्पादित मुक्त कण मुक्त आधार श्रृंखला गिरावट प्रतिक्रिया अवरुद्ध कर रहे हैं।。
डेटा समर्थन: BASF iGloss - वर्तमान में एकमात्र नैनो-सिंथेटिक वार्निश जो वैश्विक स्तर पर OEM बड़े पैमाने पर उत्पादन (3-गीले एकीकृत कोटिंग प्रक्रिया) को प्राप्त करता है - 90-95% कार्बनिक (प्रोपीलीन एसिड / अमीनो आधारित राल, लोच, स्थायित्व और प्रवाह प्रदान करता है) +5-10% अकार्बनिक (NamiSiO2 पैक, कठोरता और प्रतिरोध प्रदान करता है), नैनोस्केल इंप्रेशन स्ट्रक्चर, 25% + प्रतिरोध सुधार (Amtec-Kistler कार धोने स्थिरीकरण), 90% तत्काल पुनर्प्रवाह वसूली (60 °C पर खरोंच रिफ्लो) के माध्यम से, जबकि पारंपरिक सफाई रंगों के बराबर एसिड प्रतिरोधी वर्षा को बनाए रखता है। नानोवे टेक्नोलॉजीज का नैनो-क्लेरियम उत्पाद एक 3 डी नैनोसंरचित बहुलक प्रौद्योगिकी का उपयोग करता है, बहुत उच्च चौराहे घनत्व के माध्यम से पेंट विस्तार और उत्कृष्ट एसिड प्रतिरोधी बारिश प्रदर्शन के 10 साल को प्राप्त करता है, और QUV त्वरण परीक्षण के 4,000 घंटे को अपनाया है ( फ्लोरिडा में टैन के 20 साल के बराबर)।。
स्रोत: EP04845440A1, BASF iGloss Technical Press Release, Nanovere Nano-Clar® Technical Data, QUV ASTM G154
आम समस्या
प्रश्न: यह एसिड प्रतिरोधी नैनो पेंट और साधारण सिरेमिक चढ़ाना के बीच क्या अंतर है
सिरेमिक चढ़ाना वार्निश सतह पर SiO2 संरक्षण (2-10 मीटर) की एक अतिरिक्त परत है और बाद के बाजार प्लस सुरक्षा से संबंधित है। नैनो एसिड बारिश पेंट्स वार्निश फॉर्मूलेशन के भीतर नैनोपार्टिकल्स को एकीकृत करते हैं और OEM संयंत्र या एक विशेष पेंट मरम्मत प्रणाली से संबंधित हैं। पूर्व बाहरी परत (1-5 साल) की अखंडता पर निर्भर है और बाद में वार्निश स्वयं एसिड प्रतिरोधी है।。
प्रश्न: एसिड स्पॉट का गठन किया गया है। क्या उन्हें मरम्मत की जा सकती है
slight दोलन (3 मिमी गहराई) के लिए गीले पीस + बहु-ग्रेड पॉलिशिंग + फिर से पेंटिंग की आवश्यकता होती है - नुकसान वार्निश की मोटाई के माध्यम से पारित हो गया है और उत्कृष्ट पेंट के जोखिम पर पॉलिश किया जाता है।。
प्रश्न: आप कैसे निर्णय लेते हैं कि आपका पेंट एसिड बारिश से क्षतिग्रस्त हो गया है
सूर्य के नीचे, पेंट को साइड पर देखा जाता है - हल्के रंग का वाहन रिंग स्पॉट देख सकता है और गहरे रंग का वाहन इंद्रधनुष रंग का रिम मार्क देख सकता है। सतह छूते समय सैंडपेपर के रूप में मोटे तौर पर होती है। सरल पहचान विधि: पेंट के संदिग्ध हिस्से पर पीएच टेस्ट पेपर द्रव की एक बूंद, एसिड क्षरण को दर्शाती है यदि स्थानीय पीएच 5.0 से नीचे है और एक बुलबुला उत्पन्न होता है।。
प्रश्न: क्या नैनोटेसिड बारिश रंग रंग और प्रकाश को प्रभावित करती है
Nope। नैनोSio2 कणों की अपवर्तक दर (refractive rate 1.46) और वार्निश ऐक्रेलिक राल (refractive rate 1.48-1.50) बहुत करीब है और यह स्पष्ट फैलाव का उत्पादन नहीं करता है - स्पष्टता (DOI, छवि की अस्थिरता) को 90 से ऊपर रखा जा सकता है। अभ्यास में, DOI और 20° photodosynthesis आम तौर पर थोड़ा (2-5 इकाइयों) वृद्धि जब नैनोकणों कोटिंग की सतह पर microdefects भरने।。
प्रश्न: एसिड प्रतिरोधी बारिश कोटिंग्स की स्थायित्व क्या है
नैनो-एसिड बारिश वार्निश की जीवन प्रत्याशा स्वयं वार्निश की तुलना में होती है - OEM संयंत्र - नैनो-पेंटिंग संयंत्र 10-15 साल, और विशेष रूप से 5-8 साल की पुनरावृत्ति। एसिड प्रतिरोध समय के साथ गिरावट नहीं करता है, क्योंकि बाद में बाजार क्रिस्टल चढ़ाना करता है, क्योंकि सुरक्षात्मक कार्य बाहरी परत की अखंडता के बजाय स्वयं वार्निश की रासायनिक संरचना से लिया जाता है।。
स्रोत: EP04845440A1, BASF iGloss Technical Data, Nanovere Nano-Clar®, QUV ASTM G154, चीन सामान्य पर्यावरण निगरानी स्टेशन 2025, Organising में प्रगति
प्रकाशन तिथि: 6 जुलाई 2026 वर्गीकरण: तकनीकी ज्ञान