En bref : le SiO2 nano forme un réseau thixotrope à liaisons hydrogène qui limite dépôt et coulures tout en matant et durcissant le film.
Mécanisme
Les nanoparticules (5-100 nm) forment un réseau 3D faible : stable au repos, fluide au cisaillement.
Les chiffres
- Surface spécifique ~50-380 m²/g ; plus elle est élevée, plus l'effet est fort.
- Dose typique ~0,5-4% sur extrait sec ; au-delà la viscosité grimpe.
- Dureté et abrasion augmentent ; l'excès baisse brillance et accroche.
Choix par type
| Type | Système | Rôle |
|---|---|---|
| Pyrogénique hydrophobe | Solvant | Fort anti-dépôt, mat transparent |
| Précipité | Industriel aqueux | Mat/anti-dépôt économique |
Défauts & solutions
- Grossiers/agglomérats : plus de cisaillement ou changer de dispersant.
- Perte de brillance : baisser la dose ou gel de silice.
- Dépôt : ajouter hydrophobe pyrogénique ou bentonite.
Questions fréquentes
Pourquoi épaississant thixotrope ?
Ses particelles forment un réseau à liaisons hydrogène, structure au repos, rompu au cisaillement.
Pourquoi un excès est néfaste ?
Réseau trop fort : viscosité/limite élastique hautes, brillance, nivellement et accroche baissent.
Rhéologie et matage de la silice pyrogénée/précipitée (sources ouvertes).
Kexin New Materials (Guangdong) Co., Ltd. · 2026-09-17