Ringkasan: SiO2 nano membentuk rangkaian tiksotropik ikatan hidrogen yang menentang pemendapan dan lencun sambil memberi kusam dan kekerasan.
Mekanisme
Zarah nano (5-100 nm) membentuk rangkaian 3D lemah: stabil semasa rehat, mengalir semasa ricih.
Mengikut angka
- Luas permukaan ~50-380 m²/g; makin tinggi makin kuat.
- Dos tipikal ~0.5-4% atas pepejal; melebihi, kelikatan meningkat.
- Kekerasan dan abrasi meningkat; berlebihan kurangkan kilau dan lekatan.
Pilihan mengikut jenis
| Jenis | Sistem | Peranan |
|---|---|---|
| Fumed hidrofobik | Pelarut | Anti-pemendapan kuat, kusam jernih |
| Mendapan | Industri berasas air | Kusam/anti-pemendapan murah |
Cacat & pembetulan
- Berketul: tambah ricih atau tukar pembaur.
- Kilau hilang teruk: kurangkan dos atau gel.
- Pemendapan: tambah fumed hidrofobik atau bentonit.
Soalan lazim
Kenapa nano silika memekalkan?
Zarah membentuk rangkaian ikatan hidrogen: terstruktur semasa rehat, pecah semasa ricih.
Kenapa berlebihan buruk?
Rangkaian terlalu kuat→kelikatan/teganikan naik, kilau, penataan dan lekatan menurun.
Rheologi & pematusan silika fumed/mendapan (literatur awam).
Kexin New Materials (Guangdong) Co., Ltd. · 2026-09-17