Nano-preserative پینٹس برائے مضبوط ایسڈ-resistant Bastry: کیمیائی انert Malecular ڈیزائن سے لے کر انتہائی پی ایچ ماحولیاتی حفاظت تک

2026-07-06 · Category: Technical Knowledge

🌐 This article was automatically translated from Chinese. Please refer to the original Chinese version if needed. · اصل (چینی) دیکھیں
کروئی نتائج: 1۔ ننو-پریکل پینٹنگز برائے مضبوط ایسڈ-ریخت الکلی خصوصی صنعت کے ذریعے پی ایچ 1-14 کے ذریعے Nano Al2O3/ZrO2/SiC Creramic بھرتیوں (10-50nm particle) اور Slox/9.5 ڈگریs - کیمیائی ساخت میں سیکوریئم/203/ 730٪ کمیت کے بغیر کمیت حاصل کرتا ہے۔ ایٹمی نقل و حمل UGL-9 Namesistant Alabeth Cultings جن میں 7H (enter)، 1000 بے نمک کی کمیت (ASTM B117)، رازیفا کا مرکز ہے جس کا مرکز First12MPa (ISO 4624) - کیمیائی ذرائع کی کارکردگی اور میکانیات کے درمیان توازن - سیورسین سی آئی او-8161H ہائیڈرو-ناپ کریمک کوائلنگ سے زیادہ درجہ حرارت بڑھ رہا ہے 1000°C (pak 1500°C) اور 9H (کم + Thermal) سخت - گرم اور سرد۔ 3۔ کیمیائی رد عمل اندرونی دیواروں (80-120°C، pH1-14 ترمیم شدہ)، الیکٹرو پلیٹنگ ٹینک (chromic acid/sulphate/cyanide)، کیمیائی علاج ٹینکز (H2S/NH3/organic acon-corrosion) اور sulphuration کے نظام (SO2/SO3 rayoularation) چار بنیادی اطلاقات ہیں۔。

کیمیائی مرکبات اور ساختیں، میٹال اسٹرنگ، الیکٹرو پلیٹنگ، کیمیائی صنعتیں طویل عرصے سے کیمیائی مادّے کو انتہائی اعلیٰ پی ایچ سی کے ساتھ منتقل کرنے کے لیے ظاہر کی جاتی ہیں — گہرے سلفر ایسڈ (پی ایچ14) سے بلند درجہ حرارت (80-300°C) تک اور مکینی کپڑے۔ روایتی epoxy/polyrethane collings کو زندگی کے لیے ایسے انتہائی کیمیائی ماحول میں استعمال کیا گیا ہے جیسے کہ مضبوط ایسڈ کی ساخت کے لیے مخصوص صنعت کے ننانوے نقشے کی ساخت کا آغاز کیا جاتا ہے، نامیاتی کیمیاء C-O-C کو تبدیل کرتے ہوئے ایک انورٹر سی-سی-سی-اے-سی-کی سطح تک کیمیاء کو بڑھایا جاتا ہے۔。

chemical inert Malecular ڈیزائن - کیوں - Si-O-Si - ایسڈ یا الکلی سے نہیں ڈرتے؟?

براہ راست جواب : روایتی epoxy/polyrethane پینٹس کے لیے کراس-کین-کین-کین (تقریباً 358 ق م/مول) یا Ester کلید (انگریزی: 360kJ/mol) - Hydrolysis and dactions in acidentaly (+Catholy) یہ ضلع کولکاتا کا مضبوط ماحول ہے۔ Nano-preserative actress Siloxane/slullo-gel prestructions (مثلاً ElectL TEOS+Mcription) بطور constitution - ٹھوس تناسب اور تشکیل پزیر ہوتی ہے۔ سی او کلید (تقریباً 452ک ج/مول) سی او کلیدی سے تقریبا 26% زیادہ بلند ہے اور زیادہ اہم طور پر - سی او سی کی کلید برائے آبی حالات کے تحت ہائیڈروجن نہیں ہوتی (جو سی-او-سی) کے لیے درکار ہوتی ہے - اس کا مطلب یہ ہے کہ کوٹلینگ پی ایچ 1-14 کے مکمل حلقے میں کنول عمارتوں کی راستی برقرار رکھتی ہے۔。

غیر واضح تفصیلات — co enhancement enhancement enhancement . . . . . . . . . . - Chemical Internet Interrix & #8221; Constantance & #8121; Nami Al2O3 (Mow 9, Plear graphic equitude 20-40nm)/ZrO2 (Mow 8, Frestitude)/Som1, Firestitution - acconstruct - 20, acidentral, and the energy, North - انفلیشن میڈیا میں ٹھوس ذرات (مثلاً، یا-سلورری/slurry) شامل ہیں، قبل از انفنٹری عملہ روایتی ایپکسی سے تین سے پانچ گنا زیادہ ہے۔。

▲ Nano-O-Si-Cheal Inert Company: Hydlysis and condensation of Si-O-Si-Si (مریخی 452, acid Noydrolysis) Al2/ZORO4/SCremorm plan/ 80%Leark/ 301 کیمیائی مزاحمتی عمل ہے۔

ڈیٹا تعاون: ایٹمی تعاون UGL-9 نظام (Nami Al2O3/ZiO2/TiO2/Sio2+ Silooxane acquilation): 20% H2SO4/20% HOH/20% NaoH/ENO3/Lemexic acid (Agrate/Lemexic acid) - کم درجۂ حرارت 730 دن روشنی کی کمیت (520ء)۔ نمک 1000ء: نہ بلبلے، نہ زنگ۔ ایس . اے . Fredhyd-fluorinated Nano Plale پینٹس (salt-resistant Thallium 3000h, on 98% H2SO4 Leting 1200h - انتہائی سلفیت Corrosion)۔ SIORSIN SIO-8161H (nap Keramic water system): Timesture Freature Force 1000°C مسلسل 1500°C Fort-C Fort-time top - Thermal Conferves (11,000°C 07°C)، 10 بار) بے کار، رنگ ہیں۔。

ماخذ: Atomport UGL-9 TDS, SIORSIN SIO-8161HTDS, State Partic Technical Data, ASTM D714, ASTM B117, ISO 4624

چار بنیادی اطلاق — کیمیائی ردِعمل سے لے کر desulfur تک —

ایک صورت : Chemical Reaction وال (80-120°C, pH 1-14) Intermitent reaction actress بہت سے کیمیائی اصلاحات کا تجربہ ہو سکتا ہے ہائی ایسڈ (serification) - مضبوط الکلی (midium) - نامیاتی مرکبات (dactings) - پی ایچ کا مکمل تجربہ 0 سے 14 گھنٹوں کے اندر ہوتا ہے۔ Nanocripting-Si-O-Si-combine networkhylyse/ollyte/acidate ایسے ڈرامائی کیمیائی انقلاب میں - یہ ایک نامیاتی چادر (C-O-Construction) ہے جو مکمل طور پر غیر موثر ہے۔ GB 51283-20 اسٹینڈرڈ برائے فنی کیمیاء انٹرپرائزز اور HG/T 20581-20 کوڈ کے لیے کیمیائی عملے کی ڈیزائننگ کے لیے استعمال کیا جاتا ہے۔。

2: الیکٹرو پلیٹنگ ٹینک (chromatic acid/sulphate/cyanide)۔ chromium Plaing cell cell quids میں CrO3 (250-400g/L) + H2SO4 (2.5-4g/L) - انتہائی انتہائی آکسائیڈنگ اور تیزاب (pH13) شامل ہیں۔ Nanocular coldings Car6+ میں آکسائیڈ کی کمی یا بٹ کو خارج نہیں کرتے (sural oxidizer) اور CN-(sural bit Agener) ماحول - یہ دونوں روایتی ایپیس (aromatic accoxidation) اور polyrethane کے لیے ممکن نہیں ہے۔。

دوبارہ سوم: Sewage disease moundation (H2S/NH3/corrosion ملا کر)۔ H2S (hydrogen Sulfide) ایک کیمیائی علاج سے پانی میں حل ہو جاتا ہے تاکہ کمزور ایسڈ تشکیل دیا جائے - ایک ایسے ایسڈی ماحول جو کوانٹم پول سے PH3-5 میں جمع کیا جاتا ہے۔ اس کے ساتھ ہی NH3 (amino) اور ریبیز ایسڈ (acetic acid/propyric acid/butyric acid) نے کولنگس پر کیمیائی حملے - کیمیائی طور پر نامیاتی خلیاتی ڈھانچے کی ساخت H2S/NH3 اور نامیاتی تیزاب کے لیے اس صورت حال میں کافی تحفظ فراہم کرتی ہے۔。

IV: Scrap desulphuration system (SO2/SO3 condensation)۔ گیس میں موجود پانی کی کمیت کے اندرونی دیواری درجہ حرارت (FGD) کمیت کے بعد آکسیجن کی کمیت (یعنی تقریباً 120-150°C) کے نیچے پڑتی ہے -SO3 باقی رہ جاتی ہے Condensed main in H2SO3/H2SO4 (PH2SO4) میں پانی کی کمیت کے ساتھ کیمیائی مادوں کی شکل میں پیدا ہو جاتی ہے جس کی وجہ سے 1550°ی گیسوں میں مائعات کی کمیت پیدا ہوتی ہے۔。

ماخذ: GB 51283-2020, HG/T 20581-20, ZG-20, ZG-203 TDS, CHINESE SOCIETY OF CHEMICAL CORROSION تحفظ TECHNOLOGIES -


فاک

اِس سلسلے میں ایک مثال پر غور کریں ۔

کین. HF. SO2 اور Al2O3; &8221; ———Sio2+4HF FAF SiF FF F4 Hu2H2O, Al2O3+6HFFFFFFFAFFF2X2Z3+3H2O-HF براہ راست Nanopolymers اور سی-O-Si internet نیٹ ورک۔ وہ کام جس میں ایچ ایف (مثلاً زہریلی سٹیل ایسڈ دھول، نیم خود کار کرایہ) کے تابع ہوتا ہے، اس کے زیرِ اہتمام (PTFE / PVDF Fulorine lineer یا Phenol concing) جس کو ننوئی / الکلی کریمکس نہیں بنایا جا سکتا۔。

سوال : کیا ننانوے رنگوں کی ساخت ایک جیسی ہے ؟

بیسی مواد علاج کے تقاضوں سے بالا تر ہے Sa2.5 (ISO 8501-1)، کوان لائن گہرائی 50-75 میٹر - اس بات کی تصدیق -Si-OR کو بنیاد Fe-OH سے مکمل طور پر اخذ کیا گیا ہے۔ دو-اسمبلی ذیلی نظاموں کے مختصر متبادل اطلاقی مدت (pot life) (30-60min) یعنی اطلاق کے دوران ختم ہونا ضروری ہے۔ سالماتی حالات: 24-48h (25°C) کے لیے گھر کا درجہ حرارت ٹھوس ہو، 7 دن (مکمل کیمیائی رابطہ) - مدت کے دوران پانی اور کیمیائی تعامل سے پرہیز کرنا۔。

سوال: نینو-فتال پوش کی قیمت اور زندگی؟

گندھک کے مادوں کی قیمت تقریباً دو سے چار گنا روایتی ایپکسیک سے ہوتی ہے۔ تاہم، ہائی ایسڈ الکلی کے معاملے میں، روایتی ایپکسی 1-2 سال کے لیے دوبارہ تیار کیا جاتا ہے یعنی نووپولیمر کولنگ 8-15 سال کے لیے بنایا جاتا ہے — 10 سال LC کو 50-70% لگایا جا سکتا ہے۔ کیمیائی رد عمل ایک یک بند کمیت (CAPOBLE + دستی + چادرنگ مواد) دسیوں تا لاکھوں – سائیکلوں کی دیکھ‌بھال کرنے کی معاشی قیمت کافی زیادہ ہے ۔。

سوال: ہم نوپورٹک کولنگ کی مزاحمت کیسے جانچتے ہیں؟

GB/T 9274-2018 (PHOGRAPHICAL AND TERMINIC-RESISTANT MADIUM): مخصوص کیمیائیات (SETTLEMENTS) اور گردوں (ASTM D714) کو ہٹانے کے بعد حل کرنے کے بعد حل، زنگ (ASTM D61)، توڑ پھوڑ (ASTM D72) اور تصادم (ASTMDCOLATION)۔ کری شناخت: 30 دنوں پر محیط اور مزید معلومات 80% (ISO 4624)، زیادہ سے زیادہ معلومات 80%، 20° روشنی بدل جاتی ہے۔。


ماخذ: Atoms OGL-9 TDS, SIORSIN SIO-8161H TDS, ZG-203 TDS, ASTM D714/B117/ISO 4624, GB 51283-20, HG/T 20581-20, HG/T 2081-20

مصنف: Leter Technology Standard Department 6 جولائی 2026ء، گہرائی۔ ورژن

Tags: #pH全谱حفاظت